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西城區光敏印章的刻制流程

日期: 2024-07-04
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西城區光敏印章的應用已經深入各個領域。光敏印章,這一在上個世紀九十年代初由日本發明的創新產品,光敏印章的制作依賴于一種特殊的化工合成材料,這種材料在專用設備的強光輻射下,能夠迅速發生光氧化及熱交聯作用,進而形成具有特定文字和圖案的印章。

西城區光敏印章的刻制流程

刻制光敏印章的流程大致如下,同時附帶一些注意事項:

一、刻制流程:

設計稿樣:首先在電腦上設計印章的稿樣,包括文字、圖案、尺寸等。常用的軟件有Photoshop等,完成后將設計稿打印在硫酸紙上或透明膠片上。

準備材料:準備好光敏印章墊(一種特殊的光敏材料,通常為硅膠質感的軟墊)、曝光膜、印殼、光敏印油等材料。

組裝曝光:將打印好的設計稿(硫酸紙)圖案面向下放置,上面覆蓋曝光膜,然后將光敏印墊放置于上方。確保三者緊密貼合,無氣泡或褶皺,放入光敏印章機中。

曝光顯影:關閉光敏印章機的蓋子,機器內的光源會通過設計稿,使光敏材料在圖案部分固化。曝光時間根據機器設定和材料特性決定。

清洗與顯影:曝光后,將光敏印墊取出,使用特定的顯影劑清洗,去除未曝光的光敏材料,僅保留固化形成的印章圖案。

固化處理:將清洗過的光敏印墊進行固化處理,可以是自然干燥或使用紫外線燈照射,確保印章圖案徹底硬化。

裝配與加油:將固化的光敏印墊裝入印殼中,如果是內置印油的光敏印章,則需要事先浸泡印油;如果是外置印油,通過印殼上的注油孔添加印油,并確保均勻分布。

成品檢驗與交付:檢查印章的清晰度和功能,確認無誤后即可交付給客戶使用。

二、注意事項:

設計稿的準確性:確保設計稿樣無誤,文字、圖案清晰,尺寸合適。

材料平整貼合:組裝時注意各層材料的平整和緊密貼合,避免出現曝光不均。

曝光時間控制:根據材料特性和圖案復雜度控制曝光時間,過短或過長都會影響效果。

顯影劑的使用:選擇合適的顯影劑,并按照推薦方法操作,以免損傷光敏材料。

印油選擇與加油:根據印章使用頻率選擇合適的印油,確保加油均勻,不影響蓋印效果。

維護保養:使用后注意清潔,避免硬物刮擦,適時補充印油,延長使用壽命。

總的來說,光敏印章以其獨特的優勢和廣泛的應用場景,已經成為西城區乃至全國范圍內印章行業的重要組成部分。?

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